蚀刻铝牌工艺问题
1：腐蚀铝牌的瓷白，珠海水晶滴胶标牌，我做过好几次，都不是---理想，水晶滴胶标牌价格，主要问题是泡过以后当时很---，可是很容易脏。表面也很软，还有就说是需要用重钙，我没用和用了感觉效果差不多。这是为什么呢？还有这个需要在那个工序后面做呢？
2：铝牌填漆，我上了漆以后用---清理周边的多余漆，整版颜色都不白了啊。这个步骤应该是怎么样才能让铝牌---白呢。要是先上漆后泡碱那漆就掉了啊。
3：那个厂家的感光油墨---。麻点少，价格便宜?我现在用的这个喷的挺厚的，但是---显影以后还是很多漏板的地方。
4：铝牌清漆的问题。我见别人做的铝牌上面的清漆用稀释剂等很多药剂都细不掉，水晶滴胶标牌批发，表面---硬而且亮。用热一点的水可以去除，感觉特粘，滑手。
而采用喷淋的方式却可以 达到通过---中氧的作用将一价铜转换成二价铜， 并去除一价铜， 这就是需要将空气通入 蚀刻箱的一个功能性的原因。 但是如果空气太多﹐又会加速溶液中的氨的损失而使 ph 值下 降﹐使蚀刻速率降低。 氨在溶液中的变化量也是需要加以控制的， 有一些用户采用将纯氨 通入蚀刻储液槽的做法， 但这样做必须加一套 ph 计控制系统， 当自动监测的 ph 结果低于默 认值时﹐便会自动进行溶液添加。 在相关的化学蚀刻（亦称之为光化学蚀刻或 pch）领域中﹐研究工作已经开始﹐并达至 蚀刻机结构设计的阶段。
光刻和蚀刻技术，用光胶、掩膜、和紫外光进行微制造，水晶滴胶标牌定制，由薄膜沉积，光刻和蚀刻 三个工序组成。 ? 光刻前首先要在基片表面覆盖一层薄膜，薄膜的厚度为数埃到几十微米，称为薄膜 沉积。然后在薄膜表面用甩胶机均匀地覆盖上一层光胶，将掩膜上微流控芯片设计 图案通过---成像的原理转移到光胶层的工艺过程称为光刻。 ? 光刻的则取决于光抗蚀剂（有正负之分）和光刻掩膜版的。掩膜的基本功 能是基片受到光束照射（如紫外光）时，在图形区和非图形区产生不同的光吸收和 透过能力。
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